郝強來到EBL光刻機實驗室,指導員工研發7nm EBL光刻機。

專案組某一位技術專家看到董事長到來,眼前一亮,上前跟他彙報:“董事長,您來了。”

“嗯,現在你們碰到什麼較難解決的技術問題?”郝強直入話題。

“我自已這邊統計了一下,目前有三個最難解決的難題。”這位技術專家娓娓道來,“第一點,解析度與精度。

7nm級別的光刻需要更高的解析度和精確度,以確保電路的功能和效能,製造更小的特徵需要克服物理和化學限制。”

7nm比14nm,也就意味著使用更小的“畫筆”。

設計同樣的晶片,所使用的畫板(晶圓面積)就更小,即晶片更小,往著更精密的方向發展。

專家看到郝強點頭,接著說道:“第二點,圖案轉移與對準。”

在7nm工藝中,圖案轉移的準確性至關重要,任何微小的對準誤差都可能導致電路功能失效。

精確的對準和圖案重疊技術是研發中的難點。

公司在研發EBL光刻機時,已經解決了這個主要問題。

當然,隨著技術的提升,要求更高。

原來的14nm EBL光刻機,大部分部件是可以應用在7nm EBL光刻機上面的,但有些零部件需要換成更先進的。

郝強傾聽完技術專家的訴說後,耐心地逐一進行講解。

在一般情況下,技術人員所面臨的問題通常不需要他親自出面解決。

然而,當技術專家們碰到無法克服的難題時,往往是團隊也難以應對的複雜問題,這時郝強便不得不親自出馬。

否則,問題的解決將會拖延很長時間,甚至可能導致整個專案的進度受到影響。

集團的員工們都知道董事長工作繁忙,因此很少有人會貿然跑到他的辦公室尋求幫助。

然而,郝強此時來到實驗室,明顯表明了他是為了專門解決技術問題而來。

在實驗室的氛圍中,濃厚的科研氣息瀰漫開來,裝置的嗡鳴聲和團隊成員的討論聲交織在一起,創造出一種緊張而充滿活力的工作環境。

技術專家剛才看到郝強的身影時,心中不禁生出一絲欣喜。

他原本打算慢慢與團隊一道解決這些技術難題,但現在看來,郝強的到來無疑是一個轉機。

作為在公司內最受尊敬的領導者,郝強的能力一直是個迷。

他的每一次出手,往往都能快速而有效地找到問題的癥結所在,給出最佳的解決方案。

在這個時候,最好的答案似乎恰恰就在郝強身上。

他的到來,無疑為團隊注入了強心劑,激發了大家計程車氣。

僅僅一會兒後,這位技術專家聽完郝強的講解,他就梳理清晰解決方案。

接著,

郝強巡查7EBL光刻機的研發進展。

未來科技集團的光刻機一直以來都籠罩在神秘的面紗之下,外界對其具體型別和技術細節知之甚少。

除了晶片生產部門和研發團隊的核心人員之外,集團內其他部門的員工也對這具體技術並不知。

未來科技集團以14奈米工藝製程晶片起步,迅速引起了行業內外的震驚與關注。

這意味著其光刻機具備巨大的潛力,可能在不久的將來實現更先進工藝製程晶片的量產。

這種潛力讓競爭對手們心生忌憚,特別是行業巨頭ASLM及其他同行,紛紛對未來科技集團的動向感到驚恐。

更令人費解的是,未來科技集團並不打算出售其光刻機,也不透露任何具體資訊。

這種低調而神秘的姿態使得外界的猜測和